小型真空懸浮熔煉爐是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉。配有真空泵系統(tǒng)，用于在加熱前抽出爐膛內的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量，使爐罐內有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后，通入惰性氣體至微負壓或者真空環(huán)境，熔煉工藝啟動。

設備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達5.0*10-5pa。

小型真空懸浮熔煉爐主要技術參數(shù)

1、額定功率：100Kw

2、容量（以鈦計）：0.5Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸：D90*50

6.控制方式：plc+模擬屏

應用領域：

1·材料科研工作

2·活潑金屬、難熔金屬、稀貴金屬及合金的制備

3·用于純度要求特別高的金屬和合金的制備

4·用于成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5·對材料純度、成分精度性和均勻性要求高，期望排除雜質和其他