真空電弧爐
主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號(hào)： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：VRD-24直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、熔煉坩堝 有五個(gè)工位
7、三個(gè)熔煉合金工位 （其中兩個(gè)工位帶磁攪拌）
一個(gè)吸鑄工位
一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 150-200克
9、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
真空電弧爐
設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
1·帶電弧攪拌：強(qiáng)烈的電弧火花攪拌配合移動(dòng)操縱桿可獲得均質(zhì)效果，以消除樣品粒度和基體效應(yīng)產(chǎn)生的影響。使熔制出的樣品均勻性很好，保證了測(cè)試結(jié)果代表性和準(zhǔn)確性
2·快速水冷銅坩堝：銅坩堝四周循環(huán)水冷卻，樣品可輕易脫出，同時(shí)由于冷卻速度快，達(dá)到了快速急冷的效果，也就能滿足鑄鐵產(chǎn)品快速冷卻白口化的效果。同時(shí)無(wú)需脫模劑，且不會(huì)造成樣品與坩堝的交叉污染，可以直接熔化合金粉末樣品，避免了其它熔樣爐操作復(fù)雜以及鉑金坩堝被腐蝕的問(wèn)題
3·氬氣保護(hù)（可結(jié)合抽真空：在高純的氬氣環(huán)境保護(hù)下熔樣，可避免表面氧化。滿足苛刻的科研要求，也可以不抽真空或改充二氧化碳保護(hù)氣，以模擬現(xiàn)場(chǎng)焊接狀態(tài)。
4`要求不高的情況下，可以采用普氬，同時(shí)也可以不采用抽真空輔助手段
5`陽(yáng)極可選石墨、鎢：方便特殊樣品的檢測(cè)。石墨電極造價(jià)低廉；鎢電極可以做超低碳金屬樣品，擴(kuò)大使用范圍。
6`操作及維護(hù)非常簡(jiǎn)單：不需要專業(yè)人員和專業(yè)技能，封閉操作，無(wú)輻射，對(duì)人體無(wú)害，
7`對(duì)環(huán)境無(wú)污染。相比常用的熔敷方法制樣，無(wú)需具有專業(yè)技能的操
8`作人員以及專門的防輻射服，且制樣快速，從而可降低成本，提高企業(yè)效益
操作規(guī)范
1、開機(jī)：先開循環(huán)水泵，打開電弧爐的電源開關(guān)；
2、裝樣品：打開放氣閥，將樣品室打開并放入樣品，樣品應(yīng)置于電極的正下方；
3、抽真空：先將電弧爐樣品室的門關(guān)好，打開真空閥，抽一定值，再將真空閥擰緊，直到真空計(jì)的數(shù)值維持在-0.35KPa左右不變；（注意：抽真空的過(guò)程中確定電弧爐樣品室的門把手關(guān)好）
4、充氣：打開電弧爐樣品室的門把手，對(duì)樣品室沖入氬氣，將充氣閥門打開沖入氬氣，觀察氬氣閥旁邊的真空表，當(dāng)示數(shù)為-0.02—-0.04MPa時(shí)，擰緊充氣閥門，停止充氣；
5、引?。和ㄟ^(guò)位于電弧爐上部的把手調(diào)節(jié)上電極的位置，調(diào)節(jié)焊接峰值電流（注意：調(diào)節(jié)幅度不能過(guò)大），打開引弧開關(guān)，通過(guò)觀察室看到明亮連續(xù)的電??；
6、關(guān)機(jī)：完成實(shí)驗(yàn)后，將焊接峰值電流歸0，打開充氣閥，將樣品室打開，取出樣品，重復(fù)步驟2。（保持樣品室的真空防止空氣中雜質(zhì)和水蒸氣污染樣品）。關(guān)閉電弧爐，關(guān)閉方波電源，后關(guān)閉循環(huán)水。
微型電弧爐電源多采用硅整流裝置， 工作電壓20～40V， 空載電壓約為80 V， 工作電流每100 mm (直徑)結(jié)晶器為1600～3500 A， 電流可作大范圍 (約10：1)調(diào)節(jié)。電源應(yīng)具有恒流特性，短路電流應(yīng)不超過(guò)額定電流的1.2倍。自耗爐的熔化電耗在500～1100 kW·h/t范圍內(nèi)。
